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J-GLOBAL ID：200903038063939660

蛍光X線分析装置およびX線照射角設定方法

Inventor： 寺田 慎一 ,  西萩 一夫
Applicant, Patent owner： 株式会社テクノス研究所
Agent (1)： 西教 圭一郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993093346
Publication number (International publication number)：1994308059
Application date： Apr. 20, 1993
Publication date： Nov. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 被検物の位置および角度調整を迅速、かつ高精度に行うことができる蛍光X線分析装置およびX線照射角設定方法を提供する。【構成】 蛍光X線分析装置1aは、X線管11と、分光結晶12と、コリメータ13aと、被検物10を支持するための移動テーブル14と、テーブル制御部15と、コリメータ13bと、X線カウンタ21と、蛍光X線B3を検出するための検出器16と、比例増幅器18と、波高分析器19と、データ処理器20などで構成されており、さらに、X線ビームB2が照射される検査領域付近に光ビームL1を照射するためのレーザ光源30と、被検物10の表面で反射した光ビームL1の位置を検出するための光センサアレイ31などが設けられている。

Claim (excerpt)：

被検物の検査面に対して所定角度でX線ビームを照射するためのX線ビーム照射手段と、前記検査面に付着した試料から発生する蛍光X線を検出するための蛍光X線検出手段と、前記検査面近傍を通過するX線ビームの強度を検出するためのX線ビーム検出手段と、前記被検物を支持し、かつ当該検査面の3次元位置および前記X線ビームに対する角度を制御する被検物支持手段とを備える蛍光X線分析装置において、前記X線ビームが照射される前記検査面の検査領域付近に光ビームを照射するための光ビーム照射手段と、前記検査面から反射した光ビームの位置を検出するための光ビーム位置検出手段とを備えることを特徴とする蛍光X線分析装置。