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J-GLOBAL ID：200903038084329196
マスクパタンの設計方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994123331
Publication number (International publication number)：1995306523
Application date： May. 13, 1994
Publication date： Nov. 21, 1995
Summary：
【要約】【目的】 像面強度分布の主ピークのまわりに寄生ピークを生じることなく、かつ解像性および焦点深度の優れたマスクパタンを、簡便に設計できるようにすることを目的とする。【構成】 相互強度分布を計算したら、相互強度分布の実部を仮のマスクパタンとして結像面である被露光ウエハ上での投影像の強度分布を計算する。次いで、計算された投影像と所望のパタンとを比較し、所望のパタンとなっている場合には、仮のマスクパタンを設計されたマスクパタンとし、計算された投影像が所望のパタンとなっていない場合には、結像面上の全ての点での相互強度の実部に一定の値を足し合わせることにより、相互強度分布の実部の原点をシフトさせたものを、改めて仮のマスクパタンとする。
Claim (excerpt)：
投影露光装置に用いる原図基板上のマスクパタンを設計するマスクパタンの設計方法であって、被露光基板上における相互強度分布を計算するステップと、その相互強度分布の実部を仮のマスクパタンとして前記被露光基板上での投影像を計算するステップとを有することを特徴とするマスクパタンの設計方法。
IPC (2)：
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