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J-GLOBAL ID：200903038085600780

ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法

Inventor： 加藤 幸治 ,  橋本 政弘
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 穂高 哲夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999365798
Publication number (International publication number)：2001183838
Application date： Dec. 24, 1999
Publication date： Jul. 06, 2001
Summary：

【要約】【課題】 紫外線、遠紫外線、X線、電子線などの放射線のパターン状照射によりパターン潜像形成部に酸を発生させ、この酸を触媒とする反応によって、当該照射部と未照射部のアルカリ現像液に対する溶解性を変化させ、パターンを現出させるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物において、高感度、高解像度でかつパターン形状の良いポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びこれを用いたレジスト像の製造法を提供する。【解決手段】 (a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(c)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される側鎖に酸分解性基を有する化合物を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物において、上記(c)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される側鎖に酸分解性基を有する化合物の分子量が1,000〜10,000であるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物の塗膜を、活性化学線で照射し、次いで現像するレジスト像の製造法。

Claim (excerpt)：

(a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(c)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される側鎖に酸分解性基を有する化合物を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物において、上記(c)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される側鎖に酸分解性基を有する化合物の分子量が1,000〜10,000であることを特徴とするポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (15)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB29 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56