Pat
J-GLOBAL ID：200903038138515268

エマルショングラフト重合法とその生成物

Inventor：
瀬古 典明

About 瀬古 典明

, 
玉田 正男

About 玉田 正男


Applicant, Patent owner：
日本原子力研究所

About 日本原子力研究所


Agent (6)： 社本 一夫 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  平山 晃二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004167017
Publication number (International publication number)：2005344047
Application date： Jun. 04, 2004
Publication date： Dec. 15, 2005
Summary：
【課題】 水系溶媒におけるエマルショングラフト重合法を提供すること、また、前記方法により重合した生成物を提供すること。【解決手段】 高分子基材を活性化する工程と、前記活性化した高分子基材を、界面活性剤、水、及び反応性モノマーを含むエマルションと接触させて、前記反応性モノマーを前記高分子基材にグラフト重合させる工程とを有することを特徴とする高分子基材のグラフト重合法。界面活性剤は、陰イオン系界面活性剤、陽イオン系界面活性剤、両性イオン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤、及びそれらの混合物からなる群から選択され、高分子基材は、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系繊維、若しくはキチン、キトサン、セルロース、デンプンなどの天然高分子繊維を材質とする織布、不織布、フィルム、中空糸膜、平膜、又は糸の形態である。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
高分子基材のエマルショングラフト重合法であって、 高分子基材を活性化する工程と、 前記活性化した高分子基材を、界面活性剤、水、及び反応性モノマーを含むエマルションと接触させて、前記反応性モノマーを前記高分子基材にグラフト重合させる工程とを有することを特徴とする高分子基材のエマルショングラフト重合法。
IPC (4)：
C08F2/24 ,  B01J20/26 ,  B01J20/30 ,  B01J20/34
FI (4)：
C08F2/24 Z ,  B01J20/26 E ,  B01J20/30 ,  B01J20/34 G
F-Term (24)：
4G066AB09A ,  4G066AC01C ,  4G066AC02C ,  4G066AC03C ,  4G066AC13C ,  4G066AC17B ,  4G066BA03 ,  4G066BA16 ,  4G066CA45 ,  4G066CA46 ,  4G066CA49 ,  4G066CA50 ,  4G066DA07 ,  4G066EA13 ,  4G066FA03 ,  4G066FA08 ,  4G066FA31 ,  4G066GA11 ,  4J011KA02 ,  4J011KA04 ,  4J011KA05 ,  4J011KA08 ,  4J011KA10 ,  4J011KA13
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
Show all
Cited by examiner (5)
Show all
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • ポリプロピレンへの酢酸ビニルの乳化グラフト重合
  • 高分子化学, 1962, Vol.19, No.206, pp.337-343
  • 放射線加工, 19690515, pp.198-206,209
Show all
Cited by examiner (14)
  • ポリプロピレンへの酢酸ビニルの乳化グラフト重合
  • ポリプロピレンへの酢酸ビニルの乳化グラフト重合
  • ポリプロピレンへの酢酸ビニルの乳化グラフト重合
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM