検査方法および装置、リソグラフィ装置、ならびにリソグラフィセル

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：稲葉良幸 , 大賀眞司 , 大貫敏史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008032956
Publication number (International publication number)：2008244448
Application date： Feb. 14, 2008
Publication date： Oct. 09, 2008
Summary：

【課題】構造から回折したビームの位相差および振幅を、複数の範囲の波長を有する既知の位相変調器の欠点がない状態で測定可能なスキャトロメータの楕円偏光法の機能を提供する。【解決手段】本発明は、基板の特性を求めるために、基板から回折したら、別個に偏光した4つのビームを同時に測定することに関する。最大3つの偏光要素を介して、円または楕円偏光源を渡す。これは、光源を0、45、90および135°偏光する。位相変調器の代わりに、複数の偏光ビームスプリッタを使用するが、4つのビーム全部の強度を測定し、したがって組み合わせたビームの位相変調および振幅を測定して、基板の特徴を提供することができる。【選択図】図7

Claim (excerpt)：

基板の特性を測定する検査装置であって、放射ビームを供給する光源と、前記放射ビームを基板に集光する光学要素と、前記放射ビームの少なくとも4つの部分を4つの異なる偏光配向に偏光する偏光デバイスと、前記放射ビームの前記4つの偏光配向の角度分解スペクトルを同時に検出する検出器システムと、を含む検査装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , G01N 21/956 , G01N 23/225

FI (6)：

H01L21/30 502V , H01L21/30 514E , H01L21/30 516C , G03F7/20 521 , G01N21/956 A , G01N23/225

F-Term (29)：

2G001AA03 , 2G001AA04 , 2G001AA07 , 2G001BA15 , 2G001CA03 , 2G001CA04 , 2G001CA07 , 2G001DA09 , 2G001GA06 , 2G001MA05 , 2G051AA65 , 2G051AB20 , 2G051BA10 , 2G051BB07 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CB05 , 2G051CC15 , 2G051DA07 , 2G051EC10 , 5F046AA18 , 5F046BA02 , 5F046CB15 , 5F046CB24 , 5F046DB05 , 5F046DB08 , 5F046FA04 , 5F046FA09 , 5F046FA20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

偏光解析装置及び位置ずれ補正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-322800 Applicant：キヤノン株式会社
差動開口数方法およびデバイス
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2002-532899 Applicant：アクセントオプティカルテクノロジーズ,インク.
角度分解した分光リソグラフィの特徴付けの方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-235188 Applicant：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ

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