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J-GLOBAL ID：200903038167451880

SOG組成物及びそれを用いた半導体装置の製造方法

Inventor： 田中 寧
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 志賀 富士弥 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992211898
Publication number (International publication number)：1994056560
Application date： Aug. 10, 1992
Publication date： Mar. 01, 1994
Summary：

【要約】【目的】 SOGの下地からの露光光の反射を防止するSOG組成物を得る。【構成】 平坦化に用いるSOG組成物中に波長が240〜450nmの光を吸収する色素を含有させたことにより、SOG膜15上にレジストパターン17Aを形成する際のハレーション及び定在波効果を抑制できる。このため、半導体装置の加工線幅のバラツキを防止できる。

Claim (excerpt)：

波長が240〜450nmの光を吸収する色素を含有することを特徴とするSOG組成物。

IPC (2)：

C04B 41/85 ,  H01L 21/316