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J-GLOBAL ID：200903038215993623

広い分子量分布を有するブチルゴムの製造方法

Inventor： アダム・グロノースキー
Applicant, Patent owner： バイエル・インコーポレーテツド
Agent (1)： 青山 葆 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001582407
Publication number (International publication number)：2003532764
Application date： May. 01, 2001
Publication date： Nov. 05, 2003
Summary：

【要約】広い分子量分布を有するブチルポリマーの製造方法。この方法は、C4〜C8モノオレフィンモノマーと、C4〜C14多価オレフィンモノマーを、希釈剤、並びに主要量のハロゲン化ジアルキルアルミニウム、非主要量のジハロゲン化モノアルキルアルミニウムおよび少量のアルミノキサンを含んで成る触媒混合物の存在下、-100°C〜+50°Cの範囲の温度で接触する段階を含む。

Claim (excerpt)：

広い分子量分布を有するブチルポリマーの製造方法であって、C4〜C8モノオレフィンモノマーと、C4〜C14多価オレフィンモノマーを、希釈剤、並びに主要量のハロゲン化ジアルキルアルミニウム、非主要量のジハロゲン化モノアルキルアルミニウムおよび少量のアルミノキサンを含んで成る触媒混合物の存在下、約-100°C〜約+50°Cの範囲の温度で接触する段階を含む方法。

IPC (3)：

C08F 4/52 ,  C08F210/00 510 ,  C08F236/00 510

FI (3)：

C08F 4/52 ,  C08F210/00 510 ,  C08F236/00 510

F-Term (1)：

4J015EA00