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J-GLOBAL ID:200903038238202127

結晶性酸化第二セリウムの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995155997
Publication number (International publication number):1996081218
Application date: Jun. 22, 1995
Publication date: Mar. 26, 1996
Summary:
【要約】【目的】 半導体製造用の研磨材や、プラスチック、ガラス等の紫外線吸収材料に用いられる酸化第二セリウム粒子の製造方法を提供する。【構成】 本発明は、水酸化第二セリウムと硝酸塩を含有する水性媒体を、アルカリ性物質を用いて8〜11のpHに調整した後、100〜200°Cの温度で加圧下に加熱する事を特徴とする0.03〜5μmの粒子径を有する酸化第二セリウム粒子の製造方法である。また、0.03〜5μmの粒子径を有する結晶性酸化第二セリウム粒子の水性分散体に、第4級アンモニウムイオン(NR4+、但しRはアルキル基)を〔NR4+〕/〔CeO2〕のモル比で0.001〜1の範囲に含有して安定化された酸化第二セリウムゾルである。
Claim (excerpt):
水酸化第二セリウムと硝酸塩を含有する水性媒体を、アルカリ性物質を用いて8〜11のpHに調整した後、100〜200°Cの温度で加圧下に加熱する事を特徴とする0.03〜5μmの粒子径を有する酸化第二セリウム粒子の製造方法。
IPC (3):
C01F 17/00 ,  C09K 3/00 104 ,  C09K 3/14 550
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
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Cited by examiner (3)
  • 特開昭64-065017
  • 特開平2-221119
  • 特開昭64-065017

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