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J-GLOBAL ID：200903038242937719

新規な高分子担体およびその製造法

Inventor： 城戸 浩胤
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996208533
Publication number (International publication number)：1998055911
Application date： Aug. 07, 1996
Publication date： Feb. 24, 1998
Summary：

【要約】【解決手段】 高分子材料の表層内部に磁性体または標識性物質を包埋してなる新規な包埋型高分子担体およびその製造方法。【効果】 本発明の高分子担体は、磁性体または標識性物質が解離することなく、粒径が均一である等の優れた特性を有しており、各種の用途に利用可能である。

Claim (excerpt)：

高分子材料の表層内部に磁性体または標識性物質を包埋してなる包埋型高分子担体。

IPC (7)：

H01F 1/44 ,  C08J 3/00 ,  C08K 3/10 ,  C08L 25/10 KFV ,  C08L 35/00 LHT ,  C08L101/00 LTB ,  G01N 33/545

FI (7)：

H01F 1/28 ,  C08J 3/00 ,  C08K 3/10 ,  C08L 25/10 KFV ,  C08L 35/00 LHT ,  C08L101/00 LTB ,  G01N 33/545 Z