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J-GLOBAL ID:200903038279435969

エアワッシャ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 森本 義弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998148180
Publication number (International publication number):1999333230
Application date: May. 29, 1998
Publication date: Dec. 07, 1999
Summary:
【要約】【課題】 空気中の塵埃や有害ガスを確実に除去し、清浄水として使用する純水の供給量を低減し、かつ飽和効率の高い加湿を行なうエアワッシャを提供する。【解決手段】 空気入口から空気出口に向かって空気流が生じる水噴霧室13と空気入口に配置する第1ワッシャメディア14と、空気出口に配置する第2ワッシャメディア15と、空気流とは逆方向に向けて第1ワッシャメディアに達する噴霧水を噴霧する第1段ノズル16と、空気流と順方向に向けて噴霧水を噴霧する第2段ノズル17と、流下する噴霧水を受け止める貯水槽18と、貯水槽内の循環水を第1段ノズルに循環供給する循環水供給系19と、補給水を第2段ノズルに供給する補給水供給系25とを備えた。
Claim (excerpt):
空気入口と空気出口とを有し、空気入口から空気出口に向かって空気流が生じる水噴霧室と、水噴霧室の空気入口に配置する第1ワッシャメディアと、水噴霧室の空気出口に配置する第2ワッシャメディアと、水噴霧室内の第1ワッシャメディアより下流側に位置し、空気流とは逆方向に向けて第1ワッシャメディアに達する噴霧水を噴霧する第1段ノズルと、第1段ノズルとほぼ同じ位置にあり、空気流の順方向に向けて第2ワッシャメディアに噴霧水を噴霧する第2段ノズルと、水噴霧室内に位置して流下する噴霧水を受け止める貯水槽と、貯水槽内の循環水を第1段ノズルに循環供給する循環水供給系と、補給水を第2段ノズルに供給する補給水供給系とを備えたことを特徴とするエアワッシャ。
IPC (3):
B01D 47/06 ,  B01D 53/14 ,  B01D 53/18
FI (3):
B01D 47/06 A ,  B01D 53/14 C ,  B01D 53/18 E
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 特開昭53-080073
  • 水噴霧式空気浄化装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-241547   Applicant:三機工業株式会社
Cited by examiner (3)
  • 特開昭53-080073
  • 水噴霧式空気浄化装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-241547   Applicant:三機工業株式会社
  • 特開昭52-044472

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