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J-GLOBAL ID：200903038280552812

放電プラズマ処理装置

Inventor： 登坂 昌久
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999118182
Publication number (International publication number)：2000309870
Application date： Apr. 26, 1999
Publication date： Nov. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】基材を連続処理する際のガス漏れによる汚れを防止する。【解決手段】放電プラズマを発生する対向電極11、12の前後に、対向電極間の隙間よりも狭い空隙Dを形成するスカート状カバー15,16を設けるとともに、処理用ガス導入口13の前方側(基材走行方向の前方側)に加圧用ノズル17を設け、その加圧用ノズル17から、対向電極の一方の電極(ロール電極11)とスカート状カバー15との間にガスを供給して、処理用ガス導入口13の前方部を、対向電極間よりも加圧する。

Claim (excerpt)：

放電プラズマを発生させる対向電極と、この対向電極間の放電空間内に基材を連続的に走行させる基材走行系と、放電空間内に処理用ガスを対向電極の前方側から供給する処理用ガス導入口を備え、放電空間内に基材を走行させながら、対向電極間にパルス電界を印加することにより放電プラズマを発生させ、その放電プラズマを用いて基材の表面に薄膜を形成する装置において、対向電極の前後に、当該対向電極間の隙間よりも狭い空隙を形成するスカート状カバーを設けるとともに、処理用ガス導入口の前方側に加圧用ノズルを設け、その加圧用ノズルから、対向電極の一方の電極とスカート状カバーとの間にガスを供給して、処理用ガス導入口の前方部を、対向電極間よりも加圧することを特徴とする放電プラズマ処理装置。

IPC (3)：

C23C 16/455 ,  C23C 16/54 ,  C08J 7/00 306

FI (3)：

C23C 16/44 D ,  C23C 16/54 ,  C08J 7/00 306

F-Term (19)：

4F073AA32 ,  4F073BA03 ,  4F073BA24 ,  4F073BB01 ,  4F073CA04 ,  4F073CA08 ,  4F073CA09 ,  4F073CA65 ,  4K030AA11 ,  4K030AA16 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030EA11 ,  4K030FA03 ,  4K030GA04 ,  4K030GA14 ,  4K030JA09 ,  4K030KA12 ,  4K030KA30