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J-GLOBAL ID：200903038334483420
薄膜磁気ヘツドの研磨方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
阿部 美次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991226525
Publication number (International publication number)：1993046945
Application date： Aug. 12, 1991
Publication date： Feb. 26, 1993
Summary：
【要約】【目的】 電気的な研磨量測定のために薄膜磁気ヘッドの集積率を低下させることがない薄膜磁気ヘッドの研磨方法を提供する。【構成】 薄膜磁気ヘッド1は、基体10上に、誘導型の薄膜磁気変換素子2及び磁気抵抗効果素子3を積層してある。ポ-ル部261及び磁気抵抗効果素子3の一端面220、260及び30が同時に研磨される。ポ-ル深さPは、磁気抵抗効果素子3の電気抵抗値を抵抗測定器により測定しその測定値に基づき検出する。
Claim (excerpt)：
基体上に誘導型の薄膜磁気変換素子及び磁気抵抗効果素子を積層して設けた薄膜磁気ヘッドの端面を研磨し、前記端面を基準とする前記薄膜磁気変換素子のポ-ル高さを定める研磨方法であって、前記薄膜磁気変換素子は、コイル膜と共に磁気回路を構成する磁性膜を有し、前記磁性膜がポ-ル部と前記ポ-ル部の後方側で広がるヨ-ク部とを有しており、前記ポール部の先端及び前記磁気抵抗効果素子の先端が前記端面上に位置しており、前記端面の研磨に伴う前記ポ-ル高さを、前記磁気抵抗効果素子の電気抵抗値を測定しその測定値に基づき検出することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの研磨方法。
IPC (2)：
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