Pat
J-GLOBAL ID:200903038348801018

グロープラズマ反応方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西澤 利夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991267501
Publication number (International publication number):1993106053
Application date: Oct. 16, 1991
Publication date: Apr. 27, 1993
Summary:
【要約】【目的】 円筒管等の絶縁体管の内面や内部の静止、移動または流通物を効果的にプラズマ処理あるいは反応する。【構成】 外周部に一対のスパイラル状平行電極対を設けた絶縁体管の一端部から反応性ガスを導入し、管内部に低圧グロー放電プラズマを発生させて、管内面、または管内部の静止、移動あるいは流通物を処理する。
Claim (excerpt):
外周部に一対のスパイラル状平行電極対を設けた絶縁体管の一端部から反応性ガスを導入し、管内部に低圧グロー放電プラズマを発生させて、管内面、または管内部の静止、移動あるいは流通物を処理することを特徴とするグロープラズマ反応方法。
IPC (3):
C23C 16/50 ,  C08F 2/52 MDY ,  H05H 1/46
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開昭64-008285

Return to Previous Page