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J-GLOBAL ID：200903038349016942

マスク検査装置

Inventor： 佐々木 賢司 ,  小野 明
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 則近 憲佑
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992115100
Publication number (International publication number)：1993249656
Application date： May. 08, 1992
Publication date： Sep. 28, 1993
Summary：

【要約】【構成】 所定領域の波長の検査光を発する照明手段と、前記フィルタを透過した検査光を集光する集光レンズ系と、マスクを載置するステージ部と、前記マスクを透過した検査光を拡大投影する対物レンズ系と、前記対物レンズ系を透過する検査光の光線束の広がりを調整可能な開口絞り手段と、前記対物レンズ系からの拡大光像を撮像して画像信号を出力する撮像手段と、前記画像信号を演算処理する演算手段とを具備することを特徴とするマスク検査装置。【効果】 マスクパターンの拡大投影像を露光時の縮小投影像と同一の結像性能で得られ、マスクの欠陥を直接的に簡易かつ精度よく検査できる。

Claim (excerpt)：

所定領域の波長の検査光を発する照明手段と、前記検査光を集光する集光レンズ系と、マスクを載置するステージ部と、前記マスクを透過した検査光を拡大投影する対物レンズ系と、前記対物レンズ系を透過した検査光の光線束の広がりを調整する開口絞り手段と、前記対物レンズ系からの拡大光像を撮像して画像信号を出力する撮像手段と、前記画像信号を演算処理する演算手段とを具備することを特徴とするマスク検査装置。

IPC (5)：

G03F 1/08 ,  G01N 21/88 ,  G06F 15/62 405 ,  G06F 15/64 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-100045
  
• 特開平4-100045
  
• 特開平1-143334