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J-GLOBAL ID：200903038368217924

形状記憶合金薄膜アクチュエータ及びその製造方法、並びに光偏向器

Inventor： 太田 好紀
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995247225
Publication number (International publication number)：1997088805
Application date： Sep. 26, 1995
Publication date： Mar. 31, 1997
Summary：

【要約】【課題】SMA薄膜を堆積後に結晶化の熱処理が高温で十分に行え、SMA薄膜のパターン幅によらず基板から離間したSMA薄膜を得ることができる、信頼性に優れて小型化の可能な形状記憶合金薄膜アクチュエータ及びその製造方法を提供する。【課題を解決する手段】半導体基板10と、この基板の上面に絶縁膜11を介して一部が支持され、他部が基板の貫通孔12上に延出した形状記憶合金薄膜13と、この形状記憶合金薄膜の上面を覆った第1の誘電体薄膜14と、この第1の誘電体薄膜の上面に形成された金属薄膜15よりなり形状記憶合金薄膜を間接的に加熱するヒータと、金属薄膜の上面を覆った第2の誘電体薄膜16とがモノリシックに形成されている。

Claim (excerpt)：

基板と、この基板の上面に一部が支持された形状記憶合金薄膜と、この形状記憶合金薄膜の上面を覆った第1の誘電体薄膜と、この第1の誘電体薄膜の上面に形成された金属薄膜と、金属薄膜の上面を覆った第2の誘電体薄膜とがモノリシックに形成されていることを特徴とする形状記憶合金薄膜アクチュエータ。

IPC (3)：

F03G 7/06 ,  C23C 14/06 ,  G02B 26/08

FI (3)：

F03G 7/06 E ,  C23C 14/06 N ,  G02B 26/08 A