Pat

J-GLOBAL ID：200903038371790155

配向膜の配向処理方法

Inventor： 浅儀 典生 ,  桑原 創 ,  江原 泰蔵
Applicant, Patent owner： 日新電機株式会社 ,  株式会社イー・エッチ・シー
Agent (1)： 山本 惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992306463
Publication number (International publication number)：1994130390
Application date： Oct. 19, 1992
Publication date： May. 13, 1994
Summary：

【要約】【目的】 配向処理の際のパーティクルおよび静電気の発生を抑えることができる配向膜の配向処理方法を提供する。【構成】 真空容器12内においてその内部を真空排気装置14によって真空排気しながら、ガラス基板4上に形成された配向膜8に対して、エキシマレーザ光源16から出力されたエキシマレーザ光18を、多数の互いに平行なスリット穴24を有するマスク22およびレンズ26を通して照射する。

Claim (excerpt)：

真空容器内においてその内部を真空排気しながら、基板上に形成されていて液晶分子を一定方向に配向させるための配向膜に対して、多数の互いに平行なスリット穴を有するマスクを通してエキシマレーザ光を照射することを特徴とする配向膜の配向処理方法。