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J-GLOBAL ID：200903038371882122

アリルエーテル誘導体およびその製法並びに重合体

Inventor： 長野 英明 ,  中 昭夫
Applicant, Patent owner： 株式会社日本触媒
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998279615
Publication number (International publication number)：1999171836
Application date： Oct. 01, 1998
Publication date： Jun. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】 レジスト材料等に有用である新規な構造を有するアリルエーテル誘導体、その製法、および該アリルエーテル誘導体からなる重合体を提供する。【解決手段】 下記一般式(1):【化1】(式中、R1は水素原子または有機残基を表し、R2は酸触媒による易脱離性基を表し、R3は水素原子、有機残基または対イオンを表す。)で表わされるアリールエーテル誘導体に関する。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1):【化1】(式中、R1は水素原子または有機残基を表し、R2は酸触媒による易脱離性基を表し、R3は水素原子、有機残基または対イオンを表す。)で表されるアリルエーテル誘導体。

IPC (4)：

C07C 69/734 ,  C07C 67/347 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/039 601

FI (4)：

C07C 69/734 Z ,  C07C 67/347 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/039 601

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 新規水溶性ポリマー、これを用いた反射防止膜材料及びこれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-195409   Applicant：和光純薬工業株式会社
• アクリル酸系誘導体およびその製造方法並びにアクリル酸系重合体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-041714   Applicant：株式会社日本触媒

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Journal of Organometallic Chemistry, 1990, Vol.384, p.1-11