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J-GLOBAL ID:200903038426624934

二塩化エチレンの製造中の汚れ防止方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山崎 行造 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992122643
Publication number (International publication number):1993140010
Application date: Apr. 16, 1992
Publication date: Jun. 08, 1993
Summary:
【要約】[目的] 二塩化エチレンの製造に使用される装置中の汚れを防止する方法を提供する。[構成] 粗二塩化エチレン流れの汚れを防止するための改良された方法であって、(A) アシル化アミン(例えば、ポリイソブチレンと無水マレイン酸の反応生成物とポリアミンの反応混合物)、(B) アルキルアリールスルホン酸マグネシウム、及び(C) AとBの混合物から成る群から選択される汚れ防止剤の有効量を粗二塩化エチレン供給物流れ中に導入することを含む、方法。
Claim (excerpt):
塩素化装置又はオキシ塩素化装置からの粗二塩化エチレン供給物流れを、精製二塩化エチレンから成る塔頂留出物流れと、汚れ量の塩素化及び/又は酸素化ポリマー物質を含む粗EDCの底部流れとに蒸留分離する、二塩化エチレンの回収方法において、底部流れ中の汚れを防止するための改良された方法であって、(A) (i) C4 乃至C10のモノ不飽和ジカルボン酸物質と反応した、約300 乃至5000の分子量を有する、C2 乃至C10モノオレフィンのオレフィンポリマーと、(ii)アミン、アミノアルコール、及びそれらの混合物から成る群から選択される塩基性反応体との反応生成物、(B) 油溶性アルキル芳香族スルホン酸マグネシウム、及び(C) 10乃至90重量%の汚れ防止剤(A)と90乃至10重量%の汚れ防止剤(B) のブレンド、から成る群から選択される汚れ防止剤の有効量を粗二塩化エチレン供給物流れ中に導入することを含む、方法。
IPC (2):
C07C 21/073 ,  C07C 17/38

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