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J-GLOBAL ID：200903038428682974
反射部を有する光導波路の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
藤谷 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994133689
Publication number (International publication number)：1995318740
Application date： May. 23, 1994
Publication date： Dec. 08, 1995
Summary：
【要約】【目的】反射部と光導波路の同時形成により製造工程の簡略化を図る。【構成】基板4上にアンダークラッド3、光導波路層11、エッチングマスク5が形成。マスク5は光導波路1の形状にパターン形成され、微小幅15μmのスリット21が形成。化学的エッチングと物理的エッチングとの速度比を所望の値に設定して、光導波路層をエッチングして光導波路を分離する。横方向のエッチング幅は化学的エッチングの速度で決定され、垂直方向のエッチング速度は化学的エッチング速度と物理的エッチング速度との和となる。物理的エッチングの速度はスリット幅によって変化可能。よって、スリット幅により反射部の溝の深さ、反射面の角度を制御することが可能。反射部、光導波路の形成は同時に可能。
Claim (excerpt)：
光導波路にこの光導波路の外へ光を反射させる反射部をエッチングにより形成する光導波路の製造方法において、基板上に面状に形成された光導波路層上に、形成すべき光導波路の所望パターンであって、水平方向のエッチング幅の2倍以下の幅を有するスリットを有したエッチングマスクを形成し、この後、化学的エッチッングと物理的エッチングとの複合されたエッチングにより、前記エッチングマスクで覆われていない前記光導波路層をエッチングすることで、前記導波路及び前記反射部を同時に形成し、この形成工程において、前記スリットの幅を制御することで、前記スリットの直下に形成される反射部の深さ及び反射面の角度を制御することを特徴とする光導波路の製造方法。
IPC (2)：
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