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J-GLOBAL ID:200903038439769818

排ガス浄化用触媒及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 足立 勉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005296477
Publication number (International publication number):2007105571
Application date: Oct. 11, 2005
Publication date: Apr. 26, 2007
Summary:
【課題】 高温域や酸化雰囲気中でも、貴金属の粒成長や固溶が起こりにくく、触媒性能を維持することができる排ガス浄化用触媒及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 ジルコニウム系複合酸化物を含み、ランタノイド酸化物Aで安定化された担体3と、前記担体の表面に存在するランタノイド酸化物5(ランタノイド酸化物B)と、前記ランタノイド酸化物5の上に担持された貴金属7と、を有することを特徴とする排ガス浄化用触媒1。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
ジルコニウム系複合酸化物を含み、ランタノイド酸化物Aで安定化された担体と、 前記担体の表面に存在するランタノイド酸化物Bと、 前記ランタノイド酸化物Bの上に担持された貴金属と、を有することを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (4):
B01J 23/63 ,  B01J 23/56 ,  B01D 53/94 ,  B01J 37/02
FI (5):
B01J23/56 301A ,  B01J23/56 ,  B01D53/36 104A ,  B01D53/36 102H ,  B01J37/02 101D
F-Term (32):
4D048AA06 ,  4D048AA13 ,  4D048AA18 ,  4D048AB05 ,  4D048AB07 ,  4D048BA08X ,  4D048BA18X ,  4D048BA33X ,  4D048BA41X ,  4D048BA42X ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BC41A ,  4G169BC42B ,  4G169BC44B ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169BC69A ,  4G169BC71B ,  4G169CA03 ,  4G169CA09 ,  4G169EC27 ,  4G169EC28 ,  4G169FA02 ,  4G169FB19 ,  4G169FC08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 排気ガス浄化用触媒
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-319743   Applicant:ダイハツ工業株式会社, 株式会社キャタラー
Cited by examiner (7)
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