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J-GLOBAL ID:200903038526192772

フォトレジスト現像廃液からの水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液の回収処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三浦 進二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996352594
Publication number (International publication number):1998165933
Application date: Dec. 16, 1996
Publication date: Jun. 23, 1998
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 テトラアルキルアンモニウムイオンを含む溶液の貯蔵又は滞留のための水槽(タンク)内に不活性ガスを導入することにより、回収される水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液をフォトレジストアルカリ現像液として再利用することも可能とするフォトレジスト現像廃液からの水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液の回収処理装置を提供する。【解決手段】 フォトレジスト及びテトラアルキルアンモニウムイオンを主として含有するフォトレジスト現像廃液から、水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液の分離、回収を行う回収処理装置において、現像廃液、被処理液、処理液、回収液等の少なくともテトラアルキルアンモニウムイオンを含む溶液の貯蔵又は滞留のための水槽(タンク)内に、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスを導入する(パージする)ようにする。
Claim (excerpt):
フォトレジスト及びテトラアルキルアンモニウムイオンを主として含有するフォトレジスト現像廃液から、水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液の分離、回収を行う回収処理装置において、少なくともテトラアルキルアンモニウムイオンを含む溶液を貯蔵するか又は滞留させることを目的とする水槽(タンク)内に、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスを導入することを特徴とするフォトレジスト現像廃液からの水酸化テトラアルキルアンモニウム溶液の回収処理装置。
IPC (6):
C02F 1/00 ,  B01D 61/46 ,  C02F 1/42 ,  C07C209/86 ,  C07C211/63 ,  G03F 7/32
FI (7):
C02F 1/00 M ,  C02F 1/00 J ,  B01D 61/46 ,  C02F 1/42 D ,  C07C209/86 ,  C07C211/63 ,  G03F 7/32
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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