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J-GLOBAL ID:200903038533287630
極薄スライス生成方法および撮像方法およびCT装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
有近 紳志郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993167678
Publication number (International publication number):1995023943
Application date: Jul. 07, 1993
Publication date: Jan. 27, 1995
Summary:
【要約】【目的】 CT装置で撮像可能な最小スライス厚Txminより小さなスライス厚dの極薄スライスの画像を得る。ヘリカルスキャン時間を短縮する。【構成】 極薄スライスのスライス中心位置をZqとするとき、最小スライス厚Txminより大きなスライス厚aとスライス中心位置Zq-(a+d)/2の第1のスライスの投影データと,スライス厚a+dとスライス中心位置Zq-a/2の第2のスライスの投影データとを得て、第1のスライスの投影データを第2のスライスの投影データから減算する。この減算結果を再構成し、極薄スライスの画像を得る。【効果】 3D用,MPR用の骨の形状等を細かいスライスピッチで見たい場合に有用である。
Claim (excerpt):
CT装置において撮像可能な最小スライス厚Txminより小さなスライス厚dの極薄スライスを生成する方法であって、前記極薄スライスのスライス中心位置をZqとするとき、前記最小スライス厚Txminより大きなスライス厚aとスライス中心位置Zq-(a+d)/2〔又はZq+(a+d)/2〕の第1のスライスの投影データをスライス厚a+dとスライス中心位置Zq-a/2〔又はZq+a/2〕の第2のスライスの投影データから減算して前記極薄スライスの投影データを得るか,又は,前記第1のスライスの画像を前記第2のスライスの画像から減算して前記極薄スライスの画像を得ることを特徴とする極薄スライス生成方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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特開昭62-114538
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特開昭53-083593
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