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J-GLOBAL ID:200903038535338640

投影露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大森 聡
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996159718
Publication number (International publication number):1998012515
Application date: Jun. 20, 1996
Publication date: Jan. 16, 1998
Summary:
【要約】【課題】 投影露光装置の結像特性補正機構を駆動したときの重ね合わせ誤差の発生を抑制する。【解決手段】 レチクルR及び投影光学系PLのレンズエレメント7等の被駆動体の光軸AX方向の位置及び傾斜角を変化させることにより結像特性を補正する。例えばレンズエレメント7を駆動して結像特性を補正した場合、レンズエレメント7の横ずれにより、レチクルRのパターン像の中心P1が位置P1’までずれることがある。そこで、レンズエレメント7の駆動量とレチクルRのパターン像の中心の横ずれ量との関係をテーブル化して記憶しておき、レンズエレメント7を駆動したときにはその駆動量からそのパターン像の横ずれ量を求め、この横ずれ量の分だけアライメントセンサ12の計測結果を補正する。
Claim (excerpt):
マスクに形成された転写用のパターンの像を投影光学系を介して感光性の基板上に結像投影する投影露光装置において、前記基板上に形成された位置合わせ用マークの位置を検出する基板位置検出手段と、前記投影光学系の結像特性を補正する結像特性補正手段と、該結像特性補正手段の駆動により発生する前記投影光学系による投影像の結像位置のずれ量を求める結像位置ずれ量検出手段と、該結像位置ずれ量検出手段によって求められる結像位置のずれ量に基づいて、前記基板位置検出手段の検出結果を補正する検出位置補正手段と、を有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (3):
H01L 21/027 ,  G02F 1/1333 500 ,  G03F 9/00
FI (3):
H01L 21/30 516 A ,  G02F 1/1333 500 ,  G03F 9/00 H

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