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J-GLOBAL ID:200903038540470041

光回路の特性調整方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 吉田 精孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993093125
Publication number (International publication number):1994308546
Application date: Apr. 20, 1993
Publication date: Nov. 04, 1994
Summary:
【要約】【目的】 光回路を構成する光導波路の局部的な屈折率もしくは光路長を効率良く制御可能とする光回路の特性調整方法を提供する。【構成】 シリコン基板11上に形成された方向性結合器12a,12b及び光導波路13a,13bで構成されるマッハツェンダ干渉計10に対して、室温で水素を含浸させた後、熱処理を行うことにより、光誘起屈折率変化の敏感性を簡便且つ安全にしかも制御性良く高め、その後、金属膜22で覆われていない光導波路13aの一部分だけにKrFエキシマレーザ23からの紫外光を照射することにより、その屈折率を修正して特性を調整する。
Claim (excerpt):
基板上に形成されたコア及びクラッドからなる光導波路で構成される光回路の特性調整方法であって、前記光導波路に室温で水素を含浸させる工程と、前記光導波路に熱処理を行う工程と、前記光導波路に局部的に可視光又は紫外光を照射する工程とを備えたことを特徴とする光回路の特性調整方法。
IPC (3):
G02F 1/35 ,  G02B 6/12 ,  G02F 1/035
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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