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J-GLOBAL ID:200903038556874177

縦型加熱装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 北條 和由
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999275824
Publication number (International publication number):2001102314
Application date: Sep. 29, 1999
Publication date: Apr. 13, 2001
Summary:
【要約】【課題】 加熱効率がよく、そのため短時間で加熱できると共に、温度の下降速度も速く、これにより、1サイクルの処理時間を短縮できると共に、常温でのワークの導入、排出を可能とし、併せてヒータの寿命の長期化と消費電力の低減、さらにはアウターチューブ側の汚濁の防止を可能とする。【解決手段】 アウターチューブ9の周囲を囲むように真空チューブ4を設け、この真空チューブ4内に真空空間3を形成し、この真空空間3内に前記アウターチューブ9をその周囲から加熱するヒータ12、13を設けた。この真空空間3により真空断熱部を形成し、その内部に配置したグラファイト製のヒータ12、13によるアウターチューブ9の加熱を効率よく行えるようにした。真空チューブ4により真空空間3内に配置されたヒータ12、13とアウターチューブ9側を気密にシールし、ヒータ12、14から発生する粉末状の塵がアウターチューブ9側に及ばないようにする。
Claim (excerpt):
加熱処理される加熱物が収納される空間を周囲から囲むように立設された円筒形の化学的、熱的に安定した材料からなるインナーチューブ(8)と、このインナーチューブ(8)を囲むように立設され、内部を気密空間に保持する化学的、熱的に安定した材料からなるアウターチューブ(9)と、これらアウターチューブ(9)とインナーチューブ(8)の内部を加熱するヒータ(12)、(13)とを有する縦型加熱装置において、アウターチューブ(9)の周囲を囲むように配置されると共にアウターチューブ(9)側を外気に対して気密にシールする二重壁の真空チューブ(4)を有し、この真空チューブ(4)の内部に外部に対して気密にシールされ、且つ減圧可能な真空空間(3)が形成され、この真空空間(3)内にヒータ(12)、(13)が収納されたことを特徴とする縦型加熱装置。
IPC (3):
H01L 21/205 ,  C23C 16/46 ,  F27B 5/10
FI (3):
H01L 21/205 ,  C23C 16/46 ,  F27B 5/10
F-Term (27):
4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA03 ,  4K030EA11 ,  4K030FA10 ,  4K030KA04 ,  4K030KA10 ,  4K030KA23 ,  4K030KA46 ,  4K061AA01 ,  4K061BA11 ,  4K061CA08 ,  4K061CA21 ,  4K061DA05 ,  5F045AA03 ,  5F045AA20 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045BB01 ,  5F045BB08 ,  5F045DP19 ,  5F045DP28 ,  5F045EB10 ,  5F045EC02 ,  5F045EK06 ,  5F045EK08 ,  5F045EK22
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • 熱処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-099348   Applicant:東京エレクトロン株式会社
  • 特開平4-234119
  • 特開昭63-166195
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