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J-GLOBAL ID：200903038572219472

めっき装置及びめっき方法

Inventor： 笹部 憲一 ,  本郷 明久 ,  千代 敏 ,  富岡 賢哉 ,  津田 勝巳 ,  粂川 正行
Applicant, Patent owner： 株式会社荏原製作所
Agent (1)： 渡邉 勇 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999228898
Publication number (International publication number)：2001049495
Application date： Aug. 12, 1999
Publication date： Feb. 20, 2001
Summary：

【要約】【課題】 噴流めっき装置であって、カソード電極ピンへのめっきの付着がなく、しかも基板の側面や裏面の金属汚染を防止しつつ、基板のめっき面全体を気泡のない良好な状態でめっきすることができるようにしためっき装置及びめっき方法を提供する。【解決手段】 めっき液10を保持する円筒状のめっき槽12と、該めっき槽12の外部から供給されるめっき液10により上方に向けためっき液10の噴流を形成するめっき液噴射部18と、基板Wを着脱自在に保持して該基板W下面のめっき面がめっき液10の噴流と接触するように水平に配置する基板保持部14と、該基板保持部14を回転及び昇降させる回転機構38及び昇降機構42を備えた駆動部44とを有し、該昇降機構42により基板保持部14を下降させた位置において該基板W下面のめっき面にめっきを施すことを可能とし、該昇降機構42により基板保持部14を上昇させた位置において該基板保持部14へ基板Wを取付けまたは該基板保持部14から基板Wを取出すことを可能とした。

Claim (excerpt)：

めっき液を保持する円筒状のめっき槽と、該めっき槽の外部から供給されるめっき液により上方に向けためっき液の噴流を形成するめっき液噴射部と、基板を着脱自在に保持して該基板下面のめっき面がめっき液の噴流と接触するように水平に配置する基板保持部と、該基板保持部を回転及び昇降させる回転機構及び昇降機構を備えた駆動部とを有し、該昇降機構により基板保持部を下降させた位置において該基板下面のめっき面にめっきを施すことを可能とし、該昇降機構により基板保持部を上昇させた位置において該基板保持部へ基板を取付けまたは該基板保持部から基板を取出すことを可能としたことを特徴とするめっき装置。

IPC (4)：

C25D 17/00 ,  C25D 5/08 ,  C25D 7/00 ,  C25D 7/12

FI (4)：

C25D 17/00 B ,  C25D 5/08 ,  C25D 7/00 J ,  C25D 7/12

F-Term (14)：

4K024AA09 ,  4K024AB02 ,  4K024AB15 ,  4K024BA11 ,  4K024BB12 ,  4K024BC10 ,  4K024CA15 ,  4K024CB02 ,  4K024CB13 ,  4K024CB15 ,  4K024CB16 ,  4K024CB18 ,  4K024CB21 ,  4K024GA16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 自動ウェーハめっき装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-011189   Applicant：日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社