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J-GLOBAL ID：200903038577993770

ネガ型レジスト組成物

Inventor： 安波 昭一郎 ,  西山 文之 ,  百田 淳
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001254879
Publication number (International publication number)：2003066596
Application date： Aug. 24, 2001
Publication date： Mar. 05, 2003
Summary：

【要約】【課題】 KrFエキシマレーザー、電子線又はX線の使用に対して感度、解像性、パターン形状及びラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性ポリマー、(B)酸の作用により(A)のアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤及び(D)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定のスルホンイミド化合物を含有するネガ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性ポリマー、(B)酸の作用により(A)のアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤及び(D)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、下記一般式(a)で表されるスルホンイミド化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。【化1】一般式(a)中、R1a〜R3aは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。

IPC (4)：

G03F 7/004 503 ,  C08F 12/22 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/004 503 A ,  C08F 12/22 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (66)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB00Q ,  4J100AB00R ,  4J100AB02Q ,  4J100AB02R ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB08R ,  4J100AB09Q ,  4J100AB09R ,  4J100AB10Q ,  4J100AJ02R ,  4J100AL03Q ,  4J100AL03R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL09Q ,  4J100AL09R ,  4J100AM02Q ,  4J100AM02R ,  4J100AM21P ,  4J100AQ01Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA10P ,  4J100BA10Q ,  4J100BA14P ,  4J100BA16Q ,  4J100BA29Q ,  4J100BA37P ,  4J100BA40P ,  4J100BA40Q ,  4J100BA41Q ,  4J100BA55Q ,  4J100BB01P ,  4J100BC01P ,  4J100BC01Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA31 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA39 ,  4J100HC10 ,  4J100HC38 ,  4J100JA38