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J-GLOBAL ID：200903038619523442

水素ガス精製装置

Inventor： 大塚 健二 ,  山下 義雄
Applicant, Patent owner： 日本パイオニクス株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992332947
Publication number (International publication number)：1994171904
Application date： Dec. 14, 1992
Publication date： Jun. 21, 1994
Summary：

【要約】【目的】 半導体製造プロセスなどに使用される精製水素ガスで、各不純物含有量が1ppb以下、更には0.1ppb以下のような超高純度の精製水素ガスを得る。【構成】 パラジウム合金水素透過膜を用いた水素ガス精製装置の二次側で、高温の精製水素ガスと接する部分の表面にクロムの皮膜を形成せしめる。

Claim (excerpt)：

加熱下でのパラジウム合金膜の水素選択透過性を利用した水素ガス精製装置において、該精製装置のパラジウム合金膜を透過した二次側であって、少なくとも高温の精製水素ガスが接触する部品の接ガス部の表面にクロム皮膜が形成せしめられてなることを特徴とする水素ガス精製装置。

IPC (3)：

C01B 3/56 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/02 500

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開昭61-157326
  
• 特開昭61-157327