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J-GLOBAL ID：200903038634421303

欠陥検査方法

Inventor： 清水 敏
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 小西 淳美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993242212
Publication number (International publication number)：1995072096
Application date： Sep. 03, 1993
Publication date： Mar. 17, 1995
Summary：

【要約】【目的】 周期性パターン領域または略周期性パターン領域を有する試料に対し、バターン領域とその外周部に分けることなく、欠陥検査ができる方法を提供する。【構成】 試料のパターン領域とその外周部を含む領域を一括して、撮影して得られた信号に、信号の主走査方向に一次微分処理を行い、得られた一次微分信号に対し、試料のパターン領域とその外周部との境界部については、境界から得られるエッヂ信号が発生する方向と反対方向に発生する信号を、エッヂ信号が発生する方向と反対方向にしきい値を設け、欠陥として検出し、それ以外の検査領域では、正しきい値、負しきい値のどちらかのしきい値でスライス処理し、欠陥を検出する。

Claim (excerpt)：

周期性パターン領域もしくは略周期性パターン領域を有する試料の、パターン領域とその外周領域における欠陥部を、CCD等の画素分割方式の撮影装置により、欠陥を検出する方法であって、試料のパターン領域とその外周部を含む領域を一括して撮影して得られた信号に、信号の主走査方向に一次微分処理を行い、得られた一次微分信号に対し、試料のパターン領域とその外周領域との境界部については、境界から得られるエッヂ信号が発生する方向と、反対方向に発生する信号を、エッヂ信号が発生する方向と反対方向にしきい値を設け、欠陥として検出し、それ以外の領域では、正しきい値、負しきい値のどちらかのしきい値、もしくは正負両方のしきい値でスライス処理し、欠陥を検出することを特徴とする欠陥検出方法。

IPC (2)：

G01N 21/88 ,  G02F 1/13 101

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-010254
  
• 特開昭59-224546
  
• 特開平1-307645