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J-GLOBAL ID：200903038646221997

ビ-ム偏向装置及び突起検出装置

Inventor：
米澤 良

About 米澤 良


Applicant, Patent owner：
レーザーテック株式会社

About レーザーテック株式会社


Agent (1)： 杉村 暁秀 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999007470
Publication number (International publication number)：2000206443
Application date： Jan. 14, 1999
Publication date： Jul. 28, 2000
Summary：
【要約】【課題】 十分に長いスキャン幅を得ることができると共に比較的安価に製造できるビーム偏向装置を実現する。【解決手段】本発明によるビーム偏向装置は、複数の回転反射面を有し、出射ビームの伝搬軸線を時間と共に回転させるポリゴンミラー(5)と、球面凹面鏡(8)及び収差補正レンズ(9)を有するコリメータ光学系(7)とを具え、前記ポリゴンミラー(5)を各回転反射面が前記球面凹面鏡(8)の焦点に位置するように配置し、前記コリメータ光学系により、ポリゴンミラー(5)から出射したビームを光軸に平行なビームであって光軸からの距離が時間と共に変化する光ビームとして出射させることを特徴とする。球面凹面鏡は、ポリゴンミラーの振れ角による制約を受けにくいため。光路長を長くすることなく一層広いスキャン幅を達成することができる。
Claim (excerpt)：
複数の回転反射面を有し、出射ビームの伝搬軸線を時間と共に回転させるポリゴンミラーと、球面凹面鏡及び収差補正レンズを有するコリメータ光学系とを具え、前記ポリゴンミラーを各回転反射面が前記球面凹面鏡の焦点に位置するように配置し、前記コリメータ光学系により、ポリゴンミラーから出射したビームを光軸に平行なビームであって光軸からの距離が時間と共に変化する光ビームとして出射させることを特徴とするビーム偏向装置。
IPC (2)：
G02B 26/10 102 ,  G01B 11/30
FI (2)：
G02B 26/10 102 ,  G01B 11/30 A
F-Term (29)：
2F065AA49 ,  2F065BB01 ,  2F065BB22 ,  2F065BB27 ,  2F065CC00 ,  2F065DD02 ,  2F065DD06 ,  2F065FF02 ,  2F065FF41 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065HH09 ,  2F065HH10 ,  2F065HH13 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ05 ,  2F065LL04 ,  2F065LL09 ,  2F065LL14 ,  2F065LL19 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065LL62 ,  2F065MM03 ,  2F065MM16 ,  2F065PP15 ,  2H045AA01 ,  2H045BA02 ,  2H045CA62
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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