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J-GLOBAL ID：200903038668252713

透明導電膜及びその製造方法

Inventor：
樋之津 崇

About 樋之津 崇

, 
田上 幸治

About 田上 幸治


Applicant, Patent owner：
DOWAホールディングス株式会社

About DOWAホールディングス株式会社


Agent (4)： 萩原 康司 ,  金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  和田 憲治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006268908
Publication number (International publication number)：2008091126
Application date： Sep. 29, 2006
Publication date： Apr. 17, 2008
Summary：
【課題】塗布方法を用いて透明導電膜を製造する際に、物理的手法により得られる膜と同等の特性を示す透明導電膜の製造を可能にすることを目的とする。【解決手段】 透明導電性微粒子を含む流動性材料を基板上に塗布して塗膜を形成した後、この塗膜に圧力を加えた後に電磁波を照射し、透明導電性微粒子を燒結させる。この際に、塗膜の密度が3.0g/cm3以上になるように塗膜に圧力を加えるのが好ましい。また、ロールプレスによって塗膜の面に圧力を加えるのが好ましい。また、ロールプレスの線圧を200kg/cm以上に設定するのが好ましい。また、照射する電磁波は1GHz〜1THzのマイクロ波であるのが好ましい。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
透明導電性微粒子を含む流動性材料を基板上に塗布して塗膜を形成し、前記塗膜に圧力を加えた後に電磁波を照射し、前記透明導電性微粒子を燒結させることを特徴とする、透明導電膜の製造方法。
IPC (4)：
H01B 13/00 ,  H01B 5/14 ,  B05D 5/12 ,  B05D 3/12
FI (4)：
H01B13/00 503B ,  H01B5/14 A ,  B05D5/12 B ,  B05D3/12 C
F-Term (25)：
4D075BB05Z ,  4D075BB29Z ,  4D075BB35Z ,  4D075BB56Z ,  4D075BB81Z ,  4D075BB91Z ,  4D075BB93Z ,  4D075BB94Z ,  4D075CA22 ,  4D075CB06 ,  4D075DA04 ,  4D075DB33 ,  4D075DB37 ,  4D075DB48 ,  4D075DC18 ,  4D075DC21 ,  4D075EA10 ,  4D075EC02 ,  4D075EC53 ,  5G307FA02 ,  5G307FB01 ,  5G307FC09 ,  5G323BA02 ,  5G323BB02 ,  5G323BC03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (3)

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