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J-GLOBAL ID:200903038684990724

高周波加熱装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 井島 藤治 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992106433
Publication number (International publication number):1993299163
Application date: Apr. 24, 1992
Publication date: Nov. 12, 1993
Summary:
【要約】【目的】 自動周波数制御機能を内蔵した半導体インバータを用いた高周波電源を使用しても、複数の加熱コイルの出力を独立に制御することが可能な高周波加熱装置を実現する。【構成】 高周波電源17から発生した高周波は、並列接続された加熱コイル15a〜15cに供給され、図示していないルツボなどの加熱を行う。ここで、負荷の状態に応じて加熱コイル15bの電力を下げたい場合、可変インダクタンス16bを調整し、そのインダクタンスを増す。これにより、加熱コイル16bの印加電圧は下がり加熱コイル15bの電力は下がる。可変インダクタンス16bのインダクタンスを変化させたことに伴う周波数の変化は周波数検出器20によって検出され、この検出された周波数が予め定めた周波数となるように周波数一定制御回路21は可変インダクタンス18を制御する。
Claim (excerpt):
負荷を加熱するための並列あるいは直列接続された複数の加熱コイルと、複数の加熱コイルに高周波電力を供給するための半導体インバータを用いた単一の高周波電源と、各加熱コイルのそれぞれに直列にあるいは並列接続された可変インダクタンスと、並列あるいは直列接続された加熱コイルに並列に接続された可変インダクタンス素子と、回路の運転周波数を検出し、この周波数を一定に維持するように可変インダクタンス素子の制御を行うための手段とを備えた高周波加熱装置。
IPC (2):
H05B 6/06 386 ,  C23C 14/26
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開昭47-008111

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