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J-GLOBAL ID:200903038701084813
ガスワイピングノズル
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
下田 容一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995121952
Publication number (International publication number):1996319551
Application date: May. 19, 1995
Publication date: Dec. 03, 1996
Summary:
【要約】【目的】 リップルマークの発生を伴わないワイピングノズルを提供する。【構成】 ワイピングノズル1は、上部ノズル半体2と下部ノズル半体3との間に、ガス入口4、多孔ブロック5、第1均圧室6、絞り部7、第2均圧室8及びガス出口としてのスリット9をこの順に備え、且つ流路を湾曲させるべく前記絞り部7を、スリット9の中心線Lからδだけオフセットさせたものである。【効果】 絞り部をオフセットさせて流路を湾曲させることにより、圧力変動を抑え、リップルマークの発生を抑えることができる。
Claim (excerpt):
溶融金属メッキ槽から連続的に引き上げられる鋼帯の表面にガスを吹き付けて付着金属の厚さを制御するガスワイピングノズルにおいて、このガスワイピングノズルは、ガス入口、多孔ブロック、第1均圧室、絞り部、第2均圧室及びガス出口としてのスリットをこの順に備え、且つ流路を湾曲させるべく前記絞り部を、スリット中心線からオフセットさせたものであり、前記多孔ブロックは開孔率が少なくとも20%であり、且つ各小孔の等価径が前記スリットのギャップの10倍を超えない値であり、前記第1均圧室は多孔ブロックの小孔径の少なくとも6倍の流路長さを有することを特徴としたガスワイピングノズル。
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