Pat
J-GLOBAL ID：200903038707171840

(メタ)アクリル酸シクロヘキシルの製造方法

Inventor：
小山 正伸

About 小山 正伸

, 
増田 紀之

About 増田 紀之


Applicant, Patent owner：
東亞合成株式会社

About 東亞合成株式会社


Agent (1)： 高畑 靖世
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001027928
Publication number (International publication number)：2002226433
Application date： Feb. 05, 2001
Publication date： Aug. 14, 2002
Summary：
【要約】【課題】 (メタ)アクリル酸、シクロヘキサノール、シクロヘキセン等の反応副生物の少ない、高純度(メタ)アクリル酸シクロヘキシルを製造する。【解決手段】 (メタ)アクリル酸とシクロヘキサノールとを触媒の存在下にエステル化して得られる粗エステル、又は(メタ)アクリル酸エステルとシクロヘキサノールとを触媒の存在下にエステル交換して得られる粗エステルを精製して高純度の(メタ)アクリル酸シクロヘキシルを製造するにあたり、一段目の蒸留により粗エステル中の高沸点不純物を除去し、次いで二段目の蒸留により低沸点不純物を除去する。
Claim (excerpt)：
(メタ)アクリル酸とシクロヘキサノールとを触媒の存在下にエステル化して得られる粗エステル、又は(メタ)アクリル酸エステルとシクロヘキサノールとを触媒の存在下にエステル交換して得られる粗エステルを精製して(メタ)アクリル酸シクロヘキシルを製造するにあたり、一段目の蒸留により粗エステル中の高沸点不純物を除去し、次いで二段目の蒸留により低沸点不純物を除去することを特徴とする(メタ)アクリル酸シクロヘキシルの製造方法。
IPC (5)：
C07C 67/54 ,  C07C 67/03 ,  C07C 67/08 ,  C07C 69/54 ,  C07B 61/00 300
FI (5)：
C07C 67/54 ,  C07C 67/03 ,  C07C 67/08 ,  C07C 69/54 B ,  C07B 61/00 300
F-Term (20)：
4H006AA02 ,  4H006AC48 ,  4H006AD11 ,  4H006BA10 ,  4H006BA11 ,  4H006BA66 ,  4H006BA72 ,  4H006BB11 ,  4H006BB15 ,  4H006BC51 ,  4H006BC52 ,  4H006BD20 ,  4H006BD60 ,  4H006BJ10 ,  4H006KA03 ,  4H006KA06 ,  4H039CA66 ,  4H039CD30 ,  4H039CD90 ,  4H039CE10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM