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J-GLOBAL ID：200903038728683867

レジスト用モノマーおよびその精製方法

Inventor： 村田 直志 ,  田村 公夫 ,  吉田 康一
Applicant, Patent owner： 三菱レイヨン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000337132
Publication number (International publication number)：2001201868
Application date： Nov. 06, 2000
Publication date： Jul. 27, 2001
Summary：

【要約】【課題】 レジスト用ポリマーの原料モノマーとして使用される高沸点、低融点、重合性、分解性モノマー類から不純物を簡便かつ効果的に低減させることができるレジスト用粗モノマーの精製方法を提供する。【解決手段】 エステル化反応で得られたレジスト用粗モノマーの精製において、粗モノマーを水および/または有機溶媒で洗浄した後、吸着剤と接触させるか、または粗モノマーを薄膜蒸留する。

Claim (excerpt)：

エステル化反応で得られたレジスト用粗モノマーの精製において、粗モノマーを水および/または有機溶媒で洗浄した後、吸着剤と接触させることを特徴とするレジスト用モノマーの精製方法。

IPC (5)：

G03F 7/26 ,  C07C 67/56 ,  C07C 69/54 ,  C07D307/33 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/26 ,  C07C 67/56 ,  C07C 69/54 B ,  C07D307/32 Q ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (13)：

2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096LA30 ,  4C037EA20 ,  4H006AA02 ,  4H006AD11 ,  4H006AD16 ,  4H006AD17 ,  4H006BB11 ,  4H006BB15 ,  4H006BB25 ,  4H006BB31 ,  4H006BJ30