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J-GLOBAL ID：200903038764531445

レーザ溶接方法

Inventor： 島田 秀寛
Applicant, Patent owner： ミヤチテクノス株式会社
Agent (8)： 中尾 俊輔 ,  伊藤 高英 ,  畑中 芳実 ,  大倉 奈緒子 ,  玉利 房枝 ,  鈴木 健之 ,  磯田 志郎 ,  高橋 洋平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007299122
Publication number (International publication number)：2009119521
Application date： Nov. 19, 2007
Publication date： Jun. 04, 2009
Summary：

【課題】レーザ光のオーバーラップ率を低下させても照射箇所に対して均一幅の線状の溶接を精密に行なうことができるレーザ溶接方法を提供する。【解決手段】本発明のレーザ溶接方法に用いるレーザ光照射装置20は、レーザ光発生手段30、入射光学ユニット6、光ファイバ10および出射光学ユニット11を備えている。光ファイバ10のコア8の断面は、少なくとも光ファイバ10の出光端10bから一定の距離FLの領域において矩形状に形成されている。光ファイバ10の一定の距離FLは、3m〜30mに設定されている。これにより、照射対象Wの照射箇所LPには強度分布が均一な矩形断面のレーザ光が照射される。このレーザ光を利用することにより、均一幅の線状の溶接を可能とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

レーザ光発生手段からレーザ光を出力する第1工程と、 前記レーザ光発生手段から出力されたレーザ光を入射光学ユニットを介して光ファイバの入光端に入光させる第2工程と、 前記光ファイバの全域またはその出光端から一定の距離の領域においてコア断面が矩形状に形成された前記光ファイバの入光端に前記レーザ光を入光することにより、断面が矩形状に変換された前記レーザ光を前記光ファイバの出光端から出光させる第3工程と、 前記光ファイバの出光端から出光した断面形状が矩形状のレーザ光を出射光学ユニットを介して溶接箇所に照射する第4工程と を備えていることを特徴とするレーザ溶接方法。

IPC (4)：

B23K 26/08 ,  B23K 26/073 ,  B23K 26/20 ,  G02B 6/42

FI (4)：

B23K26/08 K ,  B23K26/073 ,  B23K26/20 310N ,  G02B6/42

F-Term (10)：

2H137AA13 ,  2H137AB06 ,  2H137BA01 ,  2H137BA23 ,  2H137BB08 ,  4E068CD05 ,  4E068CD13 ,  4E068CE08 ,  4E068DA07 ,  4E068DA09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• レーザ溶接方法およびレーザ溶接装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-075004   Applicant：ミヤチテクノス株式会社