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J-GLOBAL ID：200903038832378626
磁気ヘッドの製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993336254
Publication number (International publication number)：1995050004
Application date： Dec. 28, 1993
Publication date： Feb. 21, 1995
Summary：
【要約】【構成】 酸化物磁性材料よりなる磁気コア基板の一主面に磁気ギャップのトラック幅を規制するトラック幅規制溝を形成し、前記トラック幅規制溝が形成された磁気コア基板上に金属磁性薄膜を被着形成し、磁気コア基板上の金属磁性薄膜の表面を鏡面加工し、一対の磁気コア基板を前記鏡面加工した金属磁性薄膜同士が対向するようにギャップ材を介して接合一体化する。なお、上記鏡面加工を行う際、スラリーとして、油性スラリー、或いはSiO2 系研磨材と、増粘剤を20容量%以上,50容量%以下含有するスラリーを用いても良い。【効果】 磁気ヘッドの磁気ギャップのエッジ部からの漏洩磁界が小さくなり、サイドイレーズの発生が抑えられ、再生特性が良好となり、生産性も大きく向上する。また、このようなことから上記磁気ヘッドを用いれば高密度記録化が達成される。
Claim (excerpt)：
酸化物磁性材料よりなる磁気コア基板の一主面に磁気ギャップのトラック幅を規制するトラック幅規制溝を形成する工程と、前記トラック幅規制溝が形成された磁気コア基板上に金属磁性薄膜を被着形成する工程と、磁気コア基板上の金属磁性薄膜の表面を鏡面加工する工程と、一対の磁気コア基板を前記鏡面加工した金属磁性薄膜同士が対向するようにギャップ材を介して接合一体化する工程を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
IPC (3)：
G11B 5/127
, G11B 5/187
, G11B 5/23
Cited by examiner (5)
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