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J-GLOBAL ID：200903038855470538

フラーレン含有感光材料およびレジスト並びにそれを用いたパターン形成方法

Inventor： 松浦 幸仁
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 小池 隆彌
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999019393
Publication number (International publication number)：2000221680
Application date： Jan. 28, 1999
Publication date： Aug. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】 化学増幅型レジストでは露光後に放置すると、現像後のレジスト形状が劣化する。【解決手段】 フラーレンとアミノ基を有する物質とからなる感光材料を用い、この光化学反応を利用して架橋型化学結合させたものをフォトリソグラフィー用レジストとして用いる。

Claim (excerpt)：

アミノ基を有する物質とフラーレンからなる感光材料。

IPC (2)：

G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/038 505 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (10)：

2H025AA06 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AD01 ,  2H025BD01 ,  2H025CB19 ,  2H025CB41 ,  2H025CB47 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17