光触媒式ガス処理装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：今岡良夫 , 今岡憲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004113099
Publication number (International publication number)：2005296726
Application date： Apr. 07, 2004
Publication date： Oct. 27, 2005
Summary：

【課題】高濃度のガスを迅速、確実、かつ廉価な構造で分解処理することが出来る光触媒式ガス処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】光源を内蔵する流路の一部の内面に光触媒を担持してガス処理部とした光触媒式ガス処理装置において、上記ガス処理部20は、光触媒担持面44を、光触媒を突起状とした粗面とし、該粗面に接近させて、流路方向に該方向と垂直に長い複数の光源36...を配列して、その光源周りを通って蛇行する気流の一部が、光触媒担持面に衝突するように構成した。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

光源を内蔵する流路の一部の内面に光触媒を担持してガス処理部とした光触媒式ガス処理装置において、上記ガス処理部20は、光触媒担持面44を、光触媒を突起状とした粗面とし、該粗面に接近させて、流路方向に該方向と垂直に長い複数の光源36...を配列して、その光源周りを通って蛇行する気流の一部が、光触媒担持面44に衝突するように構成したことを特徴とする、光触媒式ガス処理装置。

IPC (4)：

B01J35/02 , A61L9/00 , A61L9/18 , B01D53/86

FI (6)：

B01J35/02 A , B01J35/02 J , A61L9/00 C , A61L9/18 , B01D53/36 J , B01D53/36 G

F-Term (25)：

4C080AA09 , 4C080AA10 , 4C080BB02 , 4C080CC02 , 4C080HH05 , 4C080JJ04 , 4C080KK08 , 4C080MM02 , 4C080NN22 , 4C080QQ17 , 4D048AA19 , 4D048AB03 , 4D048BA07Y , 4D048BA41Y , 4D048BB12 , 4D048CA07 , 4D048CC38 , 4D048EA01 , 4G069BA04A , 4G069BA48A , 4G069CA01 , 4G069CA10 , 4G069CA11 , 4G069DA06 , 4G069EC22X

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

光触媒清浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-004859 Applicant：池田デンソー株式会社
ガス処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-113602 Applicant：株式会社竹中工務店, 株式会社神戸製鋼所
柱状酸化チタン結晶光触媒材料およびその応用品
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-181969 Applicant：アンデス電気株式会社

Cited by examiner (7)

空気清浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-058345 Applicant：アイワ株式会社
ガス処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-113602 Applicant：株式会社竹中工務店, 株式会社神戸製鋼所
空気清浄化ユニット
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-382400 Applicant：アンデス電気株式会社

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