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J-GLOBAL ID：200903038880914726

マイクロアクチュエータおよびその製造方法

Inventor： 多川 則男 ,  森 淳暢
Applicant, Patent owner： 学校法人 関西大学
Agent (1)： 藤本 昇 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001289833
Publication number (International publication number)：2003101091
Application date： Sep. 21, 2001
Publication date： Apr. 04, 2003
Summary：

【要約】【課題】 酸化物薄膜の圧電定数が大きく、低電圧で大きな変位を得ることが可能なマイクロアクチュエータを提供することを課題とし、また、P-Eヒステリシス特性にも優れたマイクロアクチュエータを提供することを課題とする。【解決手段】 ウエットな方法又はドライな方法のいずれか一方により形成された酸化物薄膜と、前記ウエットな方法又はドライな方法の他方により前記酸化物薄膜の上に形成された酸化物薄膜とからなることを特徴とするマイクロアクチュエータを解決手段とする。

Claim (excerpt)：

ウエットな方法又はドライな方法のいずれか一方により形成された酸化物薄膜と、前記ウエットな方法又はドライな方法の他方により前記酸化物薄膜の上に形成された酸化物薄膜とからなることを特徴とするマイクロアクチュエータ。

IPC (5)：

H01L 41/08 ,  C23C 14/34 ,  H01L 41/18 ,  H01L 41/187 ,  H01L 41/22

FI (7)：

C23C 14/34 N ,  H01L 41/08 D ,  H01L 41/22 Z ,  H01L 41/18 101 D ,  H01L 41/18 101 Z ,  H01L 41/18 101 B ,  H01L 41/18 101 C

F-Term (5)：

4K029AA06 ,  4K029BA50 ,  4K029BB02 ,  4K029BD03 ,  4K029CA05