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J-GLOBAL ID：200903038891786665

集束イオンビーム加工観察装置

Inventor： 川浪 義実 ,  米山 明男 ,  長谷川 正樹
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996315916
Publication number (International publication number)：1998162766
Application date： Nov. 27, 1996
Publication date： Jun. 19, 1998
Summary：

【要約】【課題】試料の三次元構造を高分解能で観察可能な集束イオンビーム加工観察装置を提供する。【解決手段】試料の二次元像から集束イオンビームのビーム分布の影響を低減するデコンボリューション処理を施した後に、三次元像を形成する。

Claim (excerpt)：

試料上の同一領域を集束イオンビームで走査して複数の二次元像を取得し蓄積する機構と、上記複数の二次元像を再構成して上記試料の三次元像を形成する機構と、上記試料の三次元像を表示する機構とを有する集束イオンビーム加工観察装置において、上記集束イオンビームのビーム強度分布により生じる上記複数の二次元像の像ボケを低減する機能を有することを特徴とする集束イオンビーム加工観察装置。

IPC (2)：

H01J 37/252 ,  H01J 37/305

FI (2)：

H01J 37/252 B ,  H01J 37/305 A