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J-GLOBAL ID：200903038916353084

全反射蛍光X線分析装置

Inventor： 堀内 和志
Applicant, Patent owner： 三洋電機株式会社
Agent (1)： 恩田 博宣 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993069911
Publication number (International publication number)：1994281600
Application date： Mar. 29, 1993
Publication date： Oct. 07, 1994
Summary：

【要約】【目的】高精度であると共に簡単な構成で安価な表面検査系を備えた全反射蛍光X線分析装置を提供する。【構成】全反射蛍光X線分析装置本体11に隣接してカセット置き台12が設けられている。装置本体11とカセット置き台12との間にはウェーハ搬送ロボット13が設けられている。カセット14にはウェーハ15が複数枚搭載されている。装置本体11とカセット置き台12とに隣接して、本実施例の表面検査系である光学顕微鏡装置16が設けられている。光学顕微鏡装置16は光学顕微鏡17とウェーハ・ステージ18とから構成されている。また、ウェーハ・ステージ18には、X-Y方向に位置決め手段としての移動スケール18aが設けられている。

Claim (excerpt)：

低照射角で照射されたX線を全反射する光学的に平滑な面を有した部材と、その部材の光学的に平滑な面上に座標を設定し、当該部材の位置決めを行う位置決め手段と、光学顕微鏡とを備えたことを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-125609
  
• 特開平2-114402
  
• 特開平3-172999