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J-GLOBAL ID：200903038932986518
レーザービーム整形装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
村瀬 一美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993031097
Publication number (International publication number)：1994222300
Application date： Jan. 28, 1993
Publication date： Aug. 12, 1994
Summary：
【要約】【目的】 レーザービームを所望とする断面形状、強度分布および波面状態に高効率で変換して出力可能とする。【構成】 入射レーザービームBi の強度分布に応じた凹凸の反射面を有し、入射レーザービームBi の位相と反射方向を強度分布に応じて局所的に変えて目的とする強度分布に変換する反射面の形状・凹凸可変の第1のミラー3を有する第1のミラーシステム1と、この第1のミラーシステム1で反射されたレーザービームの波面の歪みに応じた凹凸の反射面を有しレーザービームの位相を変えて波面の歪みを補正して平坦な波面に変換する反射面の形状・凹凸可変の第2のミラー9を有する第2のミラーシステム2とから成り、第1のミラーシステム1における反射によって第2のミラーシステム上でレーザービームの強度分布を均一に変換すると共に波面の乱れを第2のミラーシステム2で補正し、出射レーザービームBo の波面をきれいな状態に保ちながら目的とする断面形状並びに均一な強度分布に整形する。
Claim (excerpt)：
入射レーザービームの強度分布に応じた凹凸の反射面を有し前記入射レーザービームの位相と反射方向を強度分布に応じて局所的に変えて目的とする強度分布に変換する第1のミラーシステムと、この第1のミラーシステムで反射されたレーザービームの波面の歪みに応じた凹凸の反射面を有しレーザービームの位相を変えて波面の歪みを補正して平坦な波面に変換する第2のミラーシステムとから成り、前記第1のミラーシステムにおける反射によって前記第2のミラーシステム上でレーザービームの強度分布を均一に変換すると共に波面の乱れを前記第2のミラーシステムで補正し、出射レーザービームの波面をきれいな状態に保ちながら目的とする断面形状並びに均一な強度分布に整形することを特徴とするレーザービーム整形装置。
IPC (3)：
G02B 27/00
, G02B 26/00
, H01S 3/10
