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J-GLOBAL ID：200903038956392600

洗浄方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法

Inventor： 田中 康明
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 立石 篤司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000029872
Publication number (International publication number)：2001223148
Application date： Feb. 08, 2000
Publication date： Aug. 17, 2001
Summary：

【要約】【課題】 光学系を構成する光学素子を短時間でかつ十分に光洗浄する方法を提供する。【解決手段】 レーザ光を光学系に照射して該光学系の光洗浄が行われるとともに、この光洗浄中、光学系を介して所定の計測基準面に照射される光量が計測される(ステップ102〜112)。この光量の計測結果に基づいて、光学系の透過率が飽和状態に達し光洗浄が完了したことが判別される(ステップ114)。そして、光洗浄が完了したと判別できたとき、レーザ光の照射が停止される(ステップ124)。従って、光学系の透過率が飽和状態に達し光洗浄が完了した時点で、直ちにレーザ光の照射が停止される。これにより、光学系を構成する光学素子を可能な限り短時間でかつ十分に光洗浄することができ、作業効率の不要な低下を防止することができるとともに、硝材に与えるダメージを防止して光学系の寿命を延ばすことができる。

Claim (excerpt)：

所定波長のエネルギビームを光学系に照射して該光学系の少なくとも一部を光洗浄する洗浄方法であって、前記エネルギビームを前記光学系に照射して前記光洗浄を行いつつ、前記光学系を介して所定の計測基準面に照射されるエネルギ強度を計測する第1工程と;前記エネルギ強度の計測結果に基づいて、前記光学系の透過率に関連する物理量が所定範囲内となったことを検知したときに、前記光学系の透過率が飽和状態に達し前記光洗浄が完了したと判別する第2工程と;前記光洗浄が完了したと判別できたとき、前記エネルギビームの照射を停止する第3工程とを含む洗浄方法。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521

FI (5)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 503 G ,  H01L 21/30 516 Z

F-Term (27)：

2H097BA03 ,  2H097BA04 ,  2H097BA06 ,  2H097BB01 ,  2H097CA13 ,  2H097GB01 ,  2H097GB02 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F046AA22 ,  5F046AA28 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB02 ,  5F046CB05 ,  5F046CB13 ,  5F046CB17 ,  5F046CB20 ,  5F046CB23 ,  5F046CB25 ,  5F046DA01 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01 ,  5F046DC01 ,  5F046DC02 ,  5F046DD06