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J-GLOBAL ID:200903038957671309
磁気記録媒体およびその製造法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
丸木 良久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992130024
Publication number (International publication number):1993303736
Application date: Apr. 23, 1992
Publication date: Nov. 16, 1993
Summary:
【要約】【構成】基板上に下地膜を介するか、或いは、直接成膜されたCo系磁性薄膜を有する磁気記録媒体であり、磁性薄膜がイオン注入によって薄膜面内に圧縮応力および/または局所的応力が導入されていることを特徴とする面内保磁力の高い磁気記録媒体を第1の発明とし、水平磁気記録媒体として使用されるCo系磁性薄膜を基板上に、薄膜成膜法により成膜を行った後、B、C、N、OおよびAr、Ne等の希ガスの1種以上を1×1016/cm2以上のドープ量でイオン注入を行うことにより、薄膜の飽和磁化を低下させる事なく、面内の保磁力を高くすることを特徴とする磁気記録媒体の製造法を第2発明とする2つの発明よりなるものである。【効果】高い残留磁化Brδを有しており、さらに、保磁力Hcにも優れている磁気記録媒体、即ち、高密度記録可能な磁気記録媒体を得ることができる。
Claim (excerpt):
基板上に下地膜を介するか、或いは、直接成膜されたCo系磁性薄膜を有する磁気記録媒体であり、磁性薄膜がイオン注入によって薄膜面内に圧縮応力および/または局所的応力が導入されていることを特徴とする面内保磁力の高い磁気記録媒体。
IPC (4):
G11B 5/66
, C23C 14/14
, C23C 14/48
, G11B 5/84
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