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J-GLOBAL ID：200903038958550157

複合ガス分離膜とその製造法

Inventor：
ジェフリー・ジェイ・チョウ

About ジェフリー・ジェイ・チョウ


Applicant, Patent owner：
ヘキスト・セラニーズ・コーポレーション

About ヘキスト・セラニーズ・コーポレーション


Agent (1)： 湯浅 恭三 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993318097
Publication number (International publication number)：1994269650
Application date： Dec. 17, 1993
Publication date： Sep. 27, 1994
Summary：
【要約】【目的】 本発明は、複合ガス分離膜とその製造法を提供する。【構成】 本発明の複合ガス分離膜は、(a) ポリアクリロニトリル表面を有する多孔質ポリアクリロニトリル構造支持体材料;(b) 前記構造支持体材料のポリアクリロニトリル表面上に配置された、架橋したフェニル含有極性オルガノポリシロキサン材料を含むガター層被膜、このとき前記ガター層被膜は未被覆のガター層表面を残している;および(c) 前記未被覆のガター層表面を被覆している6FDAタイプの極薄ポリイミド選択膜層;を含む。好ましい実施態様においては、フェニル含有オルガノポリシロキサン材料はさらにシリカゾルを含む。複合ガス分離膜を製造する方法、およびこうした複合膜を使用してガスの分離を行う方法も提供されている。
Claim (excerpt)：
(A) ポリアクリロニトリル表面を有する多孔質ポリアクリロニトリル構造支持体材料;(B) 前記構造支持材料のポリアクリロニトリル表面上に配置された、架橋したフェニル含有極性オルガノポリシロキサン材料を含むガター層被膜、このとき前記ガター層被膜は未被覆のガター層表面を残している;および(C) 前記未被覆のガター層表面を被覆している6FDAタイプの極薄ポリイミド選択膜層;を含む複合ガス分離膜。
IPC (5)：
B01D 71/70 500 ,  B01D 71/42 ,  B32B 9/00 ,  B32B 27/00 101 ,  B32B 7/02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 特開昭53-086684
  • 特開昭63-012303

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