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J-GLOBAL ID：200903039013456509

光学導波管を形成するためのポリマー組成物;それらから形成される光学導波管;およびそれを作製するための方法

Inventor： チャオ, シャオ-メイ ,  シック, ロバート エイ. ,  ラビキラン, ラマクリシュナ ,  ニール, フィリップ エス. ,  ロデス, ラリー エフ. ,  ベル, アンドリュー
Applicant, Patent owner： グッドリッチ・コーポレーション
Agent (3)： 山本 秀策 ,  安村 高明 ,  森下 夏樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002515959
Publication number (International publication number)：2004505129
Application date： Jul. 27, 2001
Publication date： Feb. 19, 2004
Summary：

本発明は、ポリマー組成物およびこのような組成物を重合化する方法に関する。さらに、本発明は、導波管を形成する際に有用なポリマー組成物、およびこのようなポリマー組成物を使用して導波管を作製するための方法に関する。特に、本発明は、クラッド-ファースト(Clad-first)またはコアファースト(core first)技術のいずれかを用いて光学導波管を形成するために使用され得る少なくとも1つの環状オレフィンモノマーから作製されるポリマーに関する。

Claim (excerpt)：

以下の構造:

IPC (1)：

C08G61/00

FI (1)：

C08G61/00

F-Term (15)：

4J032BA04 ,  4J032BA05 ,  4J032BA09 ,  4J032BA14 ,  4J032BA15 ,  4J032CA32 ,  4J032CA33 ,  4J032CA34 ,  4J032CA35 ,  4J032CA36 ,  4J032CA38 ,  4J032CA43 ,  4J032CA45 ,  4J032CA46 ,  4J032CG02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、および、半導体素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-240594   Applicant：現代電子産業株式会社
• 第10族金属の錯体を用いたノルボルネン型モノマーのモールド内付加重合
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-586785   Applicant：ザビー.エフ.グッドリッチカンパニー