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J-GLOBAL ID:200903039029077028

低抵抗膜又は低屈折率膜形成用塗布液、及び、低抵抗膜又は低反射低抵抗膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003139351
Publication number (International publication number):2003306615
Application date: Jul. 22, 1996
Publication date: Oct. 31, 2003
Summary:
【要約】【課題】着色がなく透明で導電性に優れた高性能な低抵抗膜を形成でき、さらには反射防止効果にも優れた低反射低抵抗膜を形成できる塗布液、及び低抵抗膜と低反射低抵抗膜の製造方法の提供。【解決手段】平均粒径が10nmを超えるAg微粒子とAg塩とを少なくとも含有してなることを特徴とする低抵抗膜形成用塗布液、基体上に、前記塗布液を塗布し、その上にケイ素化合物を少なくとも含有してなる低屈折率膜形成用塗布液を塗布することを特徴とする低反射低抵抗膜の製造方法。
Claim (excerpt):
平均粒径が10nmを超えるAg微粒子とAg塩とを少なくとも含有してなることを特徴とする低抵抗膜形成用塗布液。
IPC (6):
C09D 1/00 ,  C09D 5/00 ,  C09D 5/24 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  H01J 29/88
FI (6):
C09D 1/00 ,  C09D 5/00 Z ,  C09D 5/24 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  H01J 29/88
F-Term (14):
4J038AA011 ,  4J038DL031 ,  4J038DL032 ,  4J038HA061 ,  4J038HA131 ,  4J038HA446 ,  4J038KA06 ,  4J038NA19 ,  4J038NA20 ,  5C032AA02 ,  5C032DD02 ,  5C032DE01 ,  5C032DE02 ,  5C032DG02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (2)
  • 特開昭63-124331
  • 特許第3449123号

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