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J-GLOBAL ID:200903039047749572
膜モジュールの洗浄方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
森本 義弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993016655
Publication number (International publication number):1994226064
Application date: Feb. 04, 1993
Publication date: Aug. 16, 1994
Summary:
【要約】【目的】 膜モジュールを容易に洗浄できるようにする。【構成】 ケーシング8に、開状態において処理槽9内の被処理液10をこのケーシング8に導入させて膜モジュール11により膜分離を行わせるための開閉口12を設け、この開閉口12を閉じ、ケーシング8内の被処理液を排出するとともに、代わりに洗浄水を導入して、ケーシング8内で膜面を洗浄する。【効果】 処理槽から取り出すことなく膜モジュールを洗浄できる。
Claim (excerpt):
処理槽の内部に設けられたケーシング内に膜モジュールを配置した膜分離ユニットにおいて、ケーシングに、開状態において処理槽内の被処理液をこのケーシングに導入させて膜分離を行わせるための開閉口を設け、この開閉口を閉じ、ケーシング内の被処理液を排出するとともに、代わりに洗浄水を導入して、ケーシング内で膜面を洗浄することを特徴とする膜モジュールの洗浄方法。
IPC (2):
B01D 65/02
, B01D 65/02 520
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