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J-GLOBAL ID：200903039050615390

シリカ製細管およびその製造方法

Inventor： 中村 英則 ,  後藤 孝夫 ,  松井 靖
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社
Agent (1)： 矢口 平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995028851
Publication number (International publication number)：1996188409
Application date： Jan. 25, 1995
Publication date： Jul. 23, 1996
Summary：

【要約】【目的】 ゾルゲル法により高純度で半導体用材料、生体内部材またはプラスチック等の複合材の充填材、補強材並びに触媒担体として有用なシリカゲルおよびシリカガラスの細管を提供する。【構成】 酒石酸または/および酒石酸塩またはクエン酸または/およびクエン酸塩の存在下で、水溶性アルコール中でテトラアルコキシシランを加水分解して造られた細管。

Claim (excerpt)：

シリカゲルから構成されていることを特徴とする細管。

IPC (4)：

C01B 33/152 ,  C03B 8/02 ,  C03B 20/00 ,  C03C 3/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭56-169121
  
• 特開昭62-003011
  
• シリカゲルの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-065629   Applicant：工業技術院長, 多木化学株式会社
• オキシカルボン酸類-シリカ複合体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-234135   Applicant：工業技術院長, 坂口謙吾, 富士化学工業株式会社, 多木化学株式会社